近日，據(jù)富士膠片公司5日發(fā)布的新聞稿顯示，公司決定進一步擴展其半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)，增產(chǎn)半導(dǎo)體材料“研磨液（CMP Slurry）”。

　　研磨液，指固體顆粒攪拌到水中，不被溶解且分散在液體其中，一旦混合物停止震蕩時就會沉淀下來，是一種不均勻的、異質(zhì)的混合物。研磨是半導(dǎo)體加工過程中的一項重要工藝，它主要是應(yīng)用化學(xué)研磨液混配磨料的方式對半導(dǎo)體表面進行精密加工，這種化學(xué)研磨工藝幾乎涉及到半導(dǎo)體制程中的各個環(huán)節(jié)，研磨液是影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的重要因素。

　　研磨液通常由表面活性劑、PH調(diào)節(jié)劑、分散劑、螯合劑等組分組成，各組發(fā)揮不同的作用，根據(jù)磨料的不同可分為：金剛石研磨液，二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液等。

　　來源：吉致電子官網(wǎng)

　　受5G/6G高速大容量通信、自動駕駛拓展、人工智能和元宇宙的普及所推動，預(yù)計半導(dǎo)體的需求將會增加，其性能也有望提升。因此，確保為半導(dǎo)體制造工藝穩(wěn)定供應(yīng)更高質(zhì)量、更高性能的半導(dǎo)體材料變得愈發(fā)關(guān)鍵。研磨液作為半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的關(guān)鍵材料，在芯片的平坦化過程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。對高性能、高集成度半導(dǎo)體芯片的需求日益增加，將進一步推動研磨液市場的快速增長。

　　來源：富士膠片官網(wǎng)

　　富士膠片電子材料有限公司致力于助力全球半導(dǎo)體制造商開發(fā)新一代設(shè)備，為數(shù)字世界提供驅(qū)動力。公司提供多種CMP研磨液，以支持廣泛的技術(shù)節(jié)點和工藝集成要求，讓客戶能夠以出色的性價比優(yōu)勢獲得優(yōu)異可靠的產(chǎn)品。

　　來源：富士膠片官網(wǎng)

　　近日，據(jù)富士膠片公司5日發(fā)布的新聞稿顯示，為了應(yīng)對全球范圍內(nèi)人工智能（AI）半導(dǎo)體需求的不斷擴大，特別是來自亞洲地區(qū)的強勁需求，該公司決定進一步擴展其半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)。

　　來源：富士膠片官網(wǎng)

　　富士膠片旗下的半導(dǎo)體材料核心子公司“富士膠片電子材料公司”將投資約20億日元（約合人民幣1.02億元），用于擴建其位于日本熊本縣菊陽町的工廠，以提升先進半導(dǎo)體材料“研磨液（CMP Slurry）”的生產(chǎn)能力。

　　據(jù)富士膠片透露，此次擴建的投資計劃旨在滿足未來市場對研磨液的持續(xù)增長需求。擴建項目預(yù)計將于2025年1月正式投產(chǎn)，屆時熊本工廠的研磨液產(chǎn)能將提升約30%。這一擴產(chǎn)計劃將進一步鞏固富士膠片在全球半導(dǎo)體材料市場的領(lǐng)先地位。